等离子技术概述
等离子表面蚀刻
等离子表面蚀刻是一种等离子体处理，用于在微观尺度上增加材料的表面积。用反应性工艺气体蚀刻部件的表面。
将来自表面的材料蚀刻掉，转化为气态并通过真空系统除去。表面积大大增加，提高了表面能量并使材料易于润湿。在印刷、胶合和涂漆之前使用等离子体表面蚀刻，并且对于POM和PTFE的加工特别有用，其不能在不使用侵蚀性化学品的情况下印刷或粘合。
未经处理的PTFE表面
等离子蚀刻PTFE表面
反应离子蚀刻为材料表面提供高能定向的高能反应离子通量。在这样做时，当未被掩蔽的样品被反应离子蚀刻掉时，发生精确控制的子带图案化。我们的每个等离子系统都可以选配反应离子蚀刻电极，使其成为半导体或有机电子研究等应用中完美，低成本的实验室开发工具。
等离子蚀刻适用于例如：
- POM，PTFE，FEP，PFA
- PTFE化合物
- 构造硅
- 光刻胶灰化