等离子表面清洁

光学和透镜的等离子清洗

隐形眼镜和其他光学元件的等离子清洁是通过去除几乎所有表面上存在的薄层有机污染物而达到超洁净表面。
可能存在于所有透镜表面上的有机污染物通常为几纳米厚，但足以改变光学性质。光学器件和透镜的等离子体清洁是用氧气进行的，有时甚至是实验室空气就足够了，只需几秒钟就可以完全没有化学废物。与溶剂清洁剂不同是，等离子清洁绝对不会留下任何残留物。
现在广泛使用透气性隐形眼镜的等离子体清洁来改善表面润湿性特征，使得舒适性增加并且还抑制沉积物。等离子体的影响可持续数周。

  • 等离子体清洁改善了透气性隐形眼镜的润湿性
  • 提高患者舒适度
  • 等离子清洁可去除其他光学元件的痕量有机污
  • 表面变得更亲水

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