等离子技术概述

等离子表面蚀刻

等离子表面蚀刻是一种等离子体处理,用于在微观尺度上增加材料的表面积。用反应性工艺气体蚀刻部件的表面。
将来自表面的材料蚀刻掉,转化为气态并通过真空系统除去。表面积大大增加,提高了表面能量并使材料易于润湿。在印刷、胶合和涂漆之前使用等离子体表面蚀刻,并且对于POM和PTFE的加工特别有用,其不能在不使用侵蚀性化学品的情况下印刷或粘合。

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未经处理的PTFE表面

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等离子蚀刻PTFE表面


反应离子蚀刻为材料表面提供高能定向的高能反应离子通量。在这样做时,当未被掩蔽的样品被反应离子蚀刻掉时,发生精确控制的子带图案化。我们的每个等离子系统都可以选配反应离子蚀刻电极,使其成为半导体或有机电子研究等应用中完美,低成本的实验室开发工具。
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等离子蚀刻适用于例如:
  • POM,PTFE,FEP,PFA
  • PTFE化合物
  • 构造硅
  • 光刻胶灰化