等离子处理
等离子蚀刻
等离子蚀刻是用来在微观尺度上“粗糙”表面的。组件的表面通常用反应过程气体蚀刻，这种气体在表面上产生化学和物理效应。
化学蚀刻效应是由等离子中的反应气体提供的，这些反应气体很容易与表面分子发生反应并结合，将它们移到空气中，然后通过真空系统将它们抽走。物理效应是由等离子中的高能离子引起的，这些离子轰击表面，物理上溅射或撞击表面原子，再次将它们移至气态。
表面积的增加使得表面能量增加，材料易于润湿。在印刷、胶合和涂漆之前使用蚀刻，特别适用于处理不能印刷或粘接的POM和PTFE等材料。
反应离子蚀刻为材料表面提供高能定向的高能反应离子通量。在这样做时，当未掩蔽的样品被反应离子蚀刻掉时，发生基板的精确控制的图案化。我们的每个等离子系统都可以选配反应离子蚀刻电极，使其成为半导体或有机电子研究等应用中完美，低成本的实验室开发工具。
